
產品簡介
產品概述:本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業使用的軟件控制系統。
產品概述:
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業使用的軟件控制系統。
設備用途:
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
產品參數:
真空室結構:六邊形側開門
真空室尺寸:φ350x370mm
極限真空度:≤6.0E-4Pa
沉積源:永磁靶1套,φ2英寸
樣品尺寸,溫度:φ2英寸,1片,最高800℃
占地面積(長x寬x高):約1米x1米x1.9米
電控描述:手動
工藝:片內膜厚均勻性:≤±3%