
產品簡介
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業專業的軟件控制系統。設備用途:用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
產品概述:
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業專業的軟件控制系統。
設備用途:
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
產品參數:
真空室結構:方形前開門
真空室尺寸:φ400x400x400mm
極限真空度:≤6.6E-5Pa
沉積源:永磁靶3套,φ2英寸
樣品尺寸,溫度:φ4英寸,1片,800℃
占地面積(長x寬x高):約1.8米×1.7米×2米
電控描述:全自動
工藝:片內膜厚均勻性:≤±3%