產品簡介

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

產品概述：

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新研制開發的鍍膜設備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED等。

主要特點：

• 可制備多種薄膜，應用廣泛 
• 體積小，操作簡便 
• 真空腔室、真空泵組整機模塊化設計 ，控制電源為分體式設計，可根據用戶實際需要調整購買需求。 
• 可根據用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍

磁控濺射頭：

• 儀器中安裝有3個磁控濺射頭，而且都帶有水冷夾層
• 其中一個濺射頭與射頻電源相連接，主要是濺射絕緣性靶材
• 另一個濺射頭與直流電源相連接，主要濺射導電性靶材 
• 靶材尺寸要求：直徑為50mm,厚度0.1-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同） 
• 可以單獨訂購RF連接線作為備用
• 設備包含一臺水冷機，用于靶頭冷卻

載樣臺：

• 載樣臺尺寸：φ140mm（大可放 置4"的基底） 
• 載樣臺可以旋轉，其速度為：1 - 20 rpm （可調） 
• 載樣臺高可加熱溫度為500℃

真空腔體：

• 真空腔體：φ300 mm×300 mm H，采用不銹鋼制作 
• 觀察窗口：Φ100 mm 
• 腔體打開方式采用上頂開，使得換靶更加容易

氣體流量控制器：

• 儀器內部安裝有2個質量流量計，量程為：0-100sccm 
• 氣體流量設置可以在6英寸的觸摸屏上進行操作 
• 此系統運行需要Ar氣，并且氣瓶上安裝有減壓閥（設備中不包含）

真空系統：

• 配有一套GZK-103D分子泵系統（德國制作） 
• 標準5E-5mbar 極限7.4E-6mbar

薄膜測厚：

• 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝 在儀器上，可實時監測薄膜的厚度，分辨率為0.10 Å
• LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關數據

產品外形尺寸：

• L1300mm×W660mm H1200mm 
• 凈重：160 kg

質量認證：CE認證

使用提示：

• 此設備為DIY設備，參數變化較大購買前請務必電話仔細溝通 
• 為了得到的薄膜質量，必須通入高純氣體（建議> 5N） 
• 在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈 
• 要達到薄膜與基底良好結合，請在濺射前清潔基材表面 
• 超聲波清洗（詳細參數點擊下面圖片）：（1）丙酮超聲（2）異丙醇超聲-去除油脂（3）吹氮氣干燥 （4）真空烘箱除去水分。 
• 等離子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化學鍵，可祛除額外的污染物。
• 制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應用于改善金屬和合金的附著力。

警示：

• 注意：產品內部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝，帶電移動機體 
• 氣瓶上應安裝減壓閥（設備標配不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下，以安全使用 
• 濺射頭連接到高電壓。為了安全，操作者必須在關閉設備前裝樣和更換靶